一、概要

Lumina AT1光学表面欠陥分析装置は、ガラス、半導体及び光電子材料は表面検出を行う。Lumina AT1検出することができるSiC、GaN、サファイア、ガラスなどの透明な材料、またSi、ガリウム砒素、インジウムリン等の不透明基板を検出する、価格優位性によりになる開発に適した/小ロット生産プロセス中品質管理及び良率改善の有力なツール。

Lumina AT1結合散乱測定、楕円偏光、反射測定とひょうめんけいしゃ等の基本原理を用いて、非破環性方式で対Wafer表面の残留異物、表面と表面下欠陥、形状変化とフィルム厚さの均一性を測定した。

1.偏光チャンネルはフィルム、スクラッチ、応力点に用いられる、

2.凹み、突起のための勾配通路、

3.反射チャンネルは粗面の粒子に用いられ、

4.微粒子及びスクラッチのための暗視野チャネル、

二、 機能

l主な機能

1. 欠陥検出と分類

2. けっかいせき

3. フィルム枚きんいつせいそくてい

4. ひょうめんあらさそくてい

5. フィルム応力検出

l技術的特徴

1.シリコン、化合物半導体、金属基板などの透明、半透明、不透明な材料を測定することができます。

2.サブナノメートルの薄膜コーティング、ナノ粒子、スクラッチ、ピット、バンプ、応力点、その他の欠陥の全表面スキャンとイメージングを実現する、

3.150mmウエハの全表面走査の走査時間は3分、50x50mmサンプル30秒以内にスキャンを完了し、結果を表示することができます。

4.高耐震性能、システムは回転せず、形状は関係なく、非円形と割れやすい基材を収容できる、

5.ガンダム300x300mmのスキャン領域、欠陥を特定して、さらに分析することができます。ぎじゅつりょく

三、応用例

1. 透過性/非透明マテリアルの表面欠陥検出

2. MOCVDエピタキシャル成長成膜欠陥管理制御

3. PR膜厚均一性評価

4. Cleanプロセス洗浄効果評価

5. WaferにあるCMP後面欠陥解析

6. 複数の応用分野、例えばAR/VR、Glass、フォトマスク、サファイア、Siwaferなど