化合物ウエハ内の応力分布測定及び欠陥スクリーニング等の検出機能を備える

利点

√複屈折応力測定モデルに基づいて応力瞬時測定を実現し、応力二次元分布疑似カラーマップを表示する

√二重遠心検出光路を採用し、位相遅延測定精度が高い

√測定視野の要件に応じて、複数のレンズを選択可能

√サンプルトレイをカスタマイズし、異なる規格のウエハロット試験に適応する

適用対象

三世代化合物ウエハ、ガラスウエハ、精密光学素子に適用（平結晶、プリズム、波長板、レンズなど）の内部応力検出

適用領域

化合物ウエハの生産、光学精密加工などの業界向け

けんしゅつげんり

√偏光応力複屈折効果に基づいてウエハ材料内部の応力分布を検出する。結晶材料が内部欠乏により応力集中がトラップされると応力複屈折効果が発生し、偏光光が透過すると偏光状態変調が発生し、透過光のStokesベクトルを測定することで材料の応力遅延量を推定することができ、それによって材料内応力分布を得ることができる、

√集積ウエハ表面欠陥の暗視野検出と寸法測定を同期することができる。