科晶さんターゲットマグネトロンスパッタ

モデル：VTC-600-3HD

製品の概要：

VTC-600-3 HD三ターゲットマグネトロンスパッタリング装置は、zui新たに開発されためっき装置は、単層または多層の強誘電体薄膜、導電性薄膜、合金薄膜、半導体薄膜、セラミック薄膜、誘電体薄膜、光学薄膜、酸化物薄膜、硬質薄膜、ポリテトラフルオロエチレン薄膜などの製造に用いることができる。同類の設備と比べて、応用が広いだけでなく、体積が操作に小便である利点があり、実験室で材料薄膜を製造する理想的な設備であり、特に実験室で固体電解質及びOLEDなどを研究するのに適している。

主な特徴：

• 多種の薄膜を調製でき、応用が広い
• 小型で操作が簡単
• 真空チャンバ、真空ポンプユニットはモジュール化設計され、制御電源は別体式設計であり、ユーザーの実際の需要に応じて購入需要を調整することができる。
• ユーザーの実際のニーズに応じて電源を選択することができ、1つの電源で複数のターゲット銃を制御することもでき、複数の電源で単一のターゲット銃を制御することもできる

マグネトロンスパッタリングヘッド：

• 装置にはマグネトロンスパッタリングヘッドが3つ取り付けられており、いずれも水冷中間層を備えている
• スパッタヘッドの1つは無線周波数電源に接続する、主にスパッタ絶縁性ターゲット
• もう1つのスパッタリングヘッドは直流電源に接続され、主に導電性ターゲットをスパッタリングする
• ターゲットの寸法要求：直径50 mm、厚さ0.1-5 mm（ターゲットの材質によって厚さが異なる）
• 代替としてRF接続ケーブルを個別に注文することができます
• 装置はターゲット冷却用の水冷機を備えている

しりょうだい：

• ステージサイズ：φ140 mm（zui4'配置可能な大基板）
• ステージは回転可能で、その速度は：1-20 rpm（調整可能）
• しりょうだいzui高加熱可能温度は500℃

しんくうキャビティ：

• 真空キャビティ：φ300 mm×300 mmH、ステンレス製
• 観察窓：Φ100 mm
• キャビティ開放方式は上開きを採用し、ターゲット交換をより容易にする

ガス流量制御器：

• 計器内部には2つの質量流量計が取り付けられており、距離は：0-100 sccm
• ガス流量設定は6インチのタッチパネルで操作可能
• このシステムの運転にはArガスが必要であり、ガスボンベには減圧弁が取り付けられている（設備には含まれていない）

しんくうシステム：

• GZK-103 D分子ポンプシステム一式（ドイツ製）
• 標準5 E-5 mbar限界7.4 E-6 mbar

フィルムあつさ測定：

• 精密な石英振動薄膜厚測定器が計器に取り付けられ、リアルタイムで薄膜の厚さを監視でき、分解能は0.10Åである
• LEDディスプレイ表示、作成したフィルムの関連データも入力

製品外形寸法：

• L1300mm×W660mm H1200mm
• 正味重量：160 kg

科晶さんターゲットマグネトロンスパッタ

モデル：VTC-600-3HD

品質認定：CE認証

使用上のヒント：

• この設備はDIY設備で、パラメータの変化が大きいので購入する前に必ず電話でよく連絡してください
• 良好な薄膜品質を得るためには、高純度ガスを注入する必要がある（推奨>5 N）
• スパッタリングめっき前に、スパッタリングヘッド、ターゲット、基板、サンプルテーブルの清浄化を確保する
• 薄膜と基板の良好な結合を達成するには、スパッタリング前に基板表面を洗浄してください
• 超音波洗浄（詳細パラメータは次の画像をクリック）：（1）アセトン超音波（2）イソプロパノール超音波−油脂除去（3）窒素を吹いて乾燥（4）真空オーブンで水分を除去する。
• プラズマ洗浄：表面粗化ができ、表面化学結合を活性化でき、追加の汚染物質を除去できる。
• Gr、Ti、Mo、Taなどの薄いバッファ層（5ナノメートル前後）を作製し、金属と合金の接着力を改善するために応用することができる。

警告：

• 注意：製品内部に高圧部品が取り付けられており、無断での着脱、充電による機体の移動を禁止している
• ガスボンベに減圧弁（設備標準装備は含まない）を取り付け、ガスの出力圧力を0.02メガパスカルに制限することを保証する以下、安全に使用する
• スパッタヘッドは高電圧に接続されている。安全のために、オペレータは装置を閉じる前にターゲットを取り付け、交換しなければならない