1.技術要求：輸入設備

（1）電気めっき添加剤の分析に用い、全中国語操作ソフトウェアコンピュータ制御、

（2）測定モード：循環ボルタンメトリー溶出法CVSを含む、循環パルスボルタンメトリー溶出法CPVS及び計時電位又は開放電位測定法CP(硫酸銅、硫酸の有機汚染を分析できる).

（3）設備精度要求：連続10回の分析標準光輝剤/抑制剤/レベリング剤、RSD<5%

（4）全自動注入システムで、28個のサンプル（光輝剤、抑制剤、整平剤を含む）を一度に連続的に測定でき、手動でサンプルの交換、VMSの添加、光剤補助溶液と整平剤補助溶液の添加などの操作を行う必要がない。

（5）全自動洗浄システム、全コンピュータは排出廃液を制御し、パイプと洗浄テストカップを自動的に洗浄し、固定位置の静洗浄による相互干渉を減らす。

（6）標準的に全自動硫酸洗浄システムを配置し、サンプル転換間洗浄ステップを満たす

（7）動作電極：回転ディスク白金電極、ガラス支持体2 mm（強酸媒体中で老化腐食しにくい）、

（8）参照電極：二塩橋参照電極、メンテナンスフリー、内外参照溶液の交換不要。

（9）補助電極：白金補助電極、耐酸環境、

（10）全自動標準液添加システムを配置し、標準溶液を自動的に添加し、標準曲線を自動的に描画する、

（11）底液（VMS）と補助溶液自動添加システムを配置し、全コンピュータ制御し、操作者が危険な強酸性底液に接触しないようにする、

（12）全自動標準液添加システムは標準溶液の添加量を制御でき、最小添加量は0.0001 mlに達する、

（13）全自動スケーリングシステムのスケーリングシステム誤差は0.3%未満、ランダム誤差は0.07%未満

（14）全中国語制御ソフトウェア、WINDOWSオペレーティングシステムに適用し、方法を保存し、標準曲線を自動的に描画し、実験過程中に曲線の情況をリアルタイムに表示し、自動的に結果を出力し、保存し、結果に対してSPC管理制御を行うことができ、また追加量などを自動的に計算することができる、実験室の遠隔制御あるいは方法、データのシームレス接続などの機能を実現でき、工業4.0工場のデータ管理要求を満たす

（15）*デバイスのより大きな出力電流（mA）：224

（16）デバイス最小出力電流（fA）：2

（17）**デバイスのより大きな出力電位（V）：±5

（18）設備電位範囲（V）：±5

（19）走査速度：0－10.0 V/s

（20）撹拌速度：100－3000回転／分

（21）制御方式：PC機、全中国語操作ソフトウェア、関連薬メーカーの分析プログラムとデータベースを内蔵し、分析データを自動的に保存し、階層管理権限などを設定することができる。

機器構成リスト：

1.CVS本体1台

2.28個のサンプル品位自動サンプルプロセッサ1台

3.全自動標準液添加システム2セット、800自動液添加2個、2 ml液添加ユニット2個を含む

4.全自動底液（VMS）添加システム、800自動加液1個、50 ml加液ユニット1個を含む

5.全自動定量サンプリングシステム、800自動加液1個、5 ml加液ユニット1個を含む

6.2つのダイヤフラムポンプ及び制御ユニットを含む全自動洗浄システム

7.作動電極駆動軸接触、1セット

8.プラチナ選択ディスク電極、2セット

9.白金補助電極、1セット

10.メンテナンスフリー参照電極、1セット

11.駆動ベルト、3本

12.オリジナル中国語操作ソフト、1セット

13.参照電極活性化液、1本

14.パソコン1台